2月20日（金）に生命科学部生命科学科で応用化学コースの河野俊輔教授が参画する、半導体製造の高速化を目指した産学連携研究に関する「第2回研究開発推進委員会」が開催されました。
本研究は、中小企業庁の令和7年度成長型中小企業等研究開発支援事業（通称：Go-Tech事業）に採択された研究開発課題で、本年度から3年間にわたり実施される計画です。半導体装置の高性能化および製造プロセスの高速化に貢献する新技術の開発を目的としています。
当日は、研究メンバーである三和産業株式会社（山口県下松市）、地方独立行政法人山口県産業技術センター（山口県宇部市）の委員に加え、独立行政法人中小企業基盤整備機構（東京都港区）、中国経済産業局（広島県広島市）からオブザーバーを迎え、研究開発の進捗状況が報告されるとともに、今後の研究推進に向けた意見交換が行われました。
研究開発計画名は「画期的高速エッチング可能な半導体製造装置部材に適応する新規Tiアノード酸化技術及びその製造装置の開発」です。半導体製造装置に用いられる静電チャック冷却部材にチタン（Ti）金属を適用する際の課題である、金属表面への均一な絶縁膜形成の問題を解決するため、フッ素を使用しない新たなTiアノード酸化技術の確立と、その工業化を目指しています。
河野教授は、研究実施機関として「フッ素フリー電解液によるチタンアノード酸化膜形成現象に関わる機構解明」を担当しています。フッ素を含まない電解液を用いたアノード酸化膜形成プロセスを科学的に解明することにより、技術の信頼性向上と安定した工業化につなげ、半導体製造装置の高度化に貢献します。
本学を会場として同委員会が開催されたことで、Go-Tech事業のもと、産官学が一体となった連携体制の3年間にわたる計画的な研究開発が本格的に始動しました。今後、半導体分野における技術革新と産業競争力の強化への貢献が期待されます。
【生命科学部/産学共創・研究推進本部】
